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苏大维格:355nm为iGrapher200设备所使用的光源波长_

发布日期:2020-08-06 00:38   来源:未知   阅读:

同花顺(300033)金融研究中心8月1日讯,有投资者向苏大维格(300331)提问, 董秘您好,贵司官网产品展示中的一款光刻机产品“ 高速激光图形化直写设备 iGrapher200/iGrapher820“的分辨率达355nm,想请问一下这是不是贵司目前最高的工艺水平?最近报道上海微电子已经研制出28nm的光刻机,贵司在光刻机上面难道就没有更高水准的研发动作了吗?

公司回答表示,355nm为iGrapher200设备所使用的光源波长。您所提及的上海微电子所研制的28nm光刻机,据我们了解是用于芯片制造的投影光刻机,而本公司的直写光刻机与用于集成电路的投影光刻机不同,直写光刻机用于从计算机模型数据文件到微纳实际结构的制备,两者属于光刻技术领域中两种不同种类和应用的光刻机。未来公司将根据光电产业的发展需要,持续进行光刻技术和光刻设备的更新迭代。感谢您的关注!

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